中芯国际集成电路制造有限公司

北京市 大兴区 文昌大道18号
商标信息(18)
商标 名称 商标注册号 类号
SMIC 1797385 第9类
中芯 3933285 第9类
SMIC 3933287 第9类
DDF DOUBLE DENSITY FLASH 5619861 第9类
SMIC UNITED LABS 8157420 第9类
SMIC 8157421 第9类
SMIC 9436366 第9类
SMIC 2024410 第40类
中芯 3933286 第40类
SMIC 3933288 第40类
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专利信息(50)
专利号/专利申请号 类型 专利名称 公布日期
CN201621163461.1 实用新型 监控FinFET器件自发热效应的结构 20170419
CN201310092800.6 发明 半导体器件的形成方法 20170714
CN201110219819.3 发明 用于甲硅烷化的预处理方法及包括该方法的甲硅烷化方法 20160217
CN200810040570.8 发明 集成静电放电器件 20110323
CN201010118029.1 发明 用于评价改善负偏压下温度不稳定性效应工艺效果的方法 20131211
CN200910247209.7 发明 一种针孔类生长缺陷的检测方法 20120725
CN201110338861.7 发明 EEPROM存储器及其制作方法 20160316
CN201110338864.0 发明 CMOS形成方法 20160316
CN201010532525.1 发明 芯片固定基座和芯片固定连接方式 20150401
CN201210332980.6 发明 半导体检测结构及形成方法 20160316
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